pvd真空电镀浅析PVD技术的发展与应用

　　随着PVD技术应用的迅速推广，吸引了国内外专家们和相关企业积极研发，至今无论是PVD沉积技术、PVD的制备工艺，还是PVD设备配套装备与部件，都有了长足的进步。

　　1. 冷阴极电弧

　　阴极电弧技术是在真空条件下，通过低电压和高电流的弧光放电将靶材气化、离化成等离子体状态，从而实现薄膜材料的沉积。最近阴极电弧蒸发源有新的发展，主要是通过有效强制冷却和电磁场独特的设计，在两者共同作用下，使靶材的离化率更高，薄膜性能更加优异。

　　2. 磁过滤阴极弧

　　配以高效的电磁过滤系统，将电弧产生的等离子体中的中性宏观粒子、分子团等大颗粒过滤干净，经磁过滤后沉积粒子的离化率， 因此制备的薄膜非常致密和平整光滑，具有抗腐蚀性能好，与基体的结合力更强。

　　3. 柱状或平面状大面积电弧源

　　保证高离化率的同时，减少大颗粒沉积的比例，达到既有好的附着力，又有较好的表面光洁度效果。

　　4. 中频磁控溅射

　　增加离化率，减少电荷积累引起的异常放电，预防靶表面中毒现象，沉积工艺更稳定。

　　5. 全封闭非平衡磁控溅射

　　通过全封闭非平衡电磁场的作用，提高真空室内的离化率以及沉积速率，增强膜基结合力和薄膜沉积的均匀性。

　　6. 脉冲高能窄峰直流溅射

　　提高瞬间的轰击能量和溅射靶材的离化率(高至50%~60%)，接近电弧的离化率。通过电磁场的作用可以大大增加沉积离子的能量，从而改善膜层的结合力和致密性。

　　7. 阳极层离子源辅助沉积

　　提高轰击清洗的质量，特别是可以实现对非导体的镀前清洗，镀膜时辅助沉积，提高沉积粒子的能量，改善膜层的结合力。

　　8. 纳米复合多层膜

　　纳米沉积技术，是涂层结构未来的发展方向，通过纳米级厚度的不同成份沉积层复合结构膜，实现涂层性能的增强。

　　9. 装饰性双色间镀

　　单一的颜色PVD涂层已满足不了市场的需求，进而提出双色间镀的要求，这是装饰涂层的发展方向，双色间镀的质量成为代表PVD加工企业的生产技术水平标志。

　　10. 高能脉冲叠加直流偏压

　　减少工件的打火，增加沉积离子能量，增强膜基结合力，提高沉积速率。

　　11. 超低温捕集泵

　　通过低温冷凝效应，迅速捕集真空系统内的残余气体，特别是水蒸汽，大大缩短抽真空的时间，获得洁净的真空环境。

　　12. 分子泵及深冷泵

　　绿色环保，大大降低能耗，真空系统抽速稳定，镀膜工艺稳定可靠，重现性好。深冷泵还可以抽排低饱和蒸汽压等难抽气体，保证真空系统的洁净度。