真空电子束蒸发镀膜机​介绍

　　VZS-500/VZS-600 高真空电子束蒸发镀膜机采用完全封闭的系统框架，结构紧凑，外观更漂亮，使用更安全。6-10KW e型电子枪可选国产或进口，可选配离子束清洗及辅助镀膜功能。该设备广泛应用于科研院所、高校在片状、半球状、异形基底表面制备金属/化合物(ITO等氧化物)/导电薄膜/光学薄膜等。

　　主要特点/优势：

　　完全封闭的系统框架设计，外观更漂亮，使用更安全;是一台兼具美学和用户操控体验的全新升级产品;

　　前开门真空腔体，方便取放基片、添加蒸发材料以及真空室的日常维护;

　　1200L/s或1600 L/s分子泵作为主抽泵，真空极限高达5×10-5Pa(3.75×10-7Torr);另可选进口磁悬浮分子泵或者低温泵作为主抽泵，真空极限高达3×10-6Pa(2×10-8Torr);

　　6～10KW e型电子枪，4-8穴坩埚可选;

　　最大180mm基片/15～25mm ITO/FTO玻璃30片/拱形或半球形样品架，可定制一体化高精度刻蚀掩膜板;基片台公转，转速0～25rpm连续可调;平板基底衬底可选择加热或水冷;

　　更优的薄膜均匀性和重复性，采用进口膜厚监控仪在线监测和控制蒸发速率、膜厚;

　　可沉积金属(Au, Ag, Al, Ti, Pt, Mo, Fe, Cr, Ni等)、化合物(ITO等)及有机物材料(进口电子枪);